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J-GLOBAL ID：200902292027964861   整理番号：03A0238461

アルカリ性水溶液中における化学前処理したSi(100)ウエハ上でのニッケル無電解析出プロセス

Nickel electroless deposition process on chemically pretreated Si(100) wafers in aqueous alkaline solution.

著者 (4件)： NIWA D (Waseda Univ., Tokyo, JPN) ,  TAKANO N (Waseda Univ., Tokyo, JPN) ,  YAMADA T (Waseda Univ., Tokyo, JPN) ,  OSAKA T (Waseda Univ., Tokyo, JPN)
資料名： Electrochimica Acta  (Electrochimica Acta)
巻： 48  号： 9  ページ： 1295-1300  発行年： 2003年04月20日 
JST資料番号： B0535B  ISSN： 0013-4686  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 塩酸と過酸化水素の混合物(HPM)またはエタノールでSiウエ...

シソーラス用語： *ケイ素 ,...
準シソーラス用語： FTIRスペクトル

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分類 (3件)： 電極過程  (CB07040U) ,  その他の無触媒反応  (CB06070U) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (1件)： エタノール

タイトルに関連する用語 (8件)： アルカリ性水溶液 ,  化学 ,  前処理 ,  Si ,  ウエハ ,  ニッケル ,  無電解析出 ,  プロセス