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J-GLOBAL ID：200902292855751049   整理番号：04A0460464

極薄原子層蒸着TaNx膜の構造

Structures of ultra-thin atomic-layer-deposited TaNx films
著者 (3件)：
WU Y Y

WU Y Y について

(Technion, Haifa, ISR)

Technion, Haifa, ISR について

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KOHN A

KOHN A について

(Technion, Haifa, ISR)

Technion, Haifa, ISR について

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EIZENBERG M

EIZENBERG M について

(Technion, Haifa, ISR)

Technion, Haifa, ISR について


資料名：
Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)

Journal of Applied Physics について


巻： 95  号： 11,Pt.1  ページ： 6167-6174  発行年： 2004年06月01日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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Cuメタライゼーションの拡散障壁として使われる標記薄膜(1...
シソーラス用語：
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*タンタル化合物

タンタル化合物 について

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窒化タンタル

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分類 (1件)：
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その他の無機化合物の薄膜 
(BK14060A)

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タイトルに関連する用語 (1件)：
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原子層蒸着

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