文献

J-GLOBAL ID：200902293306420231   整理番号：07A1164171

NTSIC(新技術炭化けい素) 高強度反応焼結炭化けい素の微細構造の評価

NTSIC (New-Technology Silicon Carbide): Evaluation of microstructure of high-strength reaction-sintered silicon carbide for optical mirror

著者 (2件)： SUYAMA Shoko (Toshiba Corp., Yokohama, JPN) ,  ITOH Yoshiyasu (Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 6666  ページ： 66660K.1-66660K.11  発行年： 2007年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高強度反応焼結炭化けい素(SiC)のナノスケール一様性を改善...

シソーラス用語： *炭化ケイ素 ,...
準シソーラス用語： 新材料

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=07A1164171&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=D0943A") }}

分類 (2件)： その他の光学機器  (QF05060C) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 炭化けい素 ,  高強度 ,  反応焼結 ,  微細構造 ,  評価