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J-GLOBAL ID：200902293752493528   整理番号：09A1135599

チロンによるポリケイ酸の解重合

Depolymerization of polysilicic acid by tiron

著者 (3件)： BAI Shuqin (Dep. of Chemistry, Fac. of Sciences, Kyushu Univ., Hakozaki, Higashi-ku, Fukuoka 812-8581, JPN) ,  OKAUE Yoshihiro (Dep. of Chemistry, Fac. of Sciences, Kyushu Univ., Hakozaki, Higashi-ku, Fukuoka 812-8581, JPN) ,  YOKOYAMA Takushi (Dep. of Chemistry, Fac. of Sciences, Kyushu Univ., Hakozaki, Higashi-ku, Fukuoka 812-8581, JPN)
資料名： Polymer Degradation and Stability  (Polymer Degradation and Stability)
巻： 94  号： 10  ページ： 1795-1799  発行年： 2009年10月 
JST資料番号： E0404B  ISSN： 0141-3910  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 地熱発電プラントの有効なシリカスケール防止剤開発の予備的実験として,ケイ酸の重合に対するケイ酸の配位子としてのチロンの効果を,ゲルクロマトグラフィー法により調べた。地熱水と類似の条件であるSi濃度400ppm(14mM)およびpH8で実験を行った。チロンの濃度は0~50mMの範囲で変化させた。チロン30mMにおいて,チロンの存在にもかかわらず最初の1時間以内にケイ酸の重合が急速に起こったが,ポリケイ酸はチロンにより解重合された。ポリケイ酸の解重合の機構を,チロンが存在しない場合,存在する場合のシリカゲル粒子のゼータ電位に基づいて議論した。Copyright 2009 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *解重合 ,  腐食抑制剤 ,  *スケール防止剤 ,  重合 ,  ζ電位 ,  *シリカゲル ,  カラムクロマトグラフィー ,  スルホン酸 ,  多価フェノール ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ ,  *ポリケイ酸

分類 (1件)： 高分子の分解,劣化  (CG03010A)

物質索引 (1件)： チロン

タイトルに関連する用語 (3件)： チロン ,  ケイ酸 ,  解重合