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J-GLOBAL ID：200902294562475198   整理番号：09A1026961

磁性流体を研磨液として用いた平面ラッピング

Lapping of Glass Plate with Magnetic Fluid and Magnetic Field

著者 (3件)： 梅原徳次 (名古屋大) ,  青柳英樹 (本田技研) ,  下村彰 (日の本研磨材)
資料名： 日本機械学会論文集 C編  (Transactions of the Japan Society of Mechanical Engineers. Series C)
巻： 75  号： 757  ページ： 2423-2428  発行年： 2009年09月25日 
JST資料番号： F0045B  ISSN： 0387-5024  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 磁性流体を研磨液として用いたガラス基板の磁気平面ラッピングにおいて,表面粗さと平面度に及ぼす磁場の影響を明らかにするために,垂直磁場を印加可能なラップ加工装置を改造,試作し,研磨実験を行い,磁場下における磁性流体中の砥粒の挙動を観察することによって,以下の知見を得た。(1)異なる粒径の砥粒を用いて研磨実験を行った結果,表面粗さRyは磁場を印加して研磨を行うことによって約20~60%減少し,平面度Δhも約20~60%減少した。特に平均粒径dが4.0μm以下の砥粒を用いた場合においては約50~60%減少した。(2)異なる磁場強度で研磨実験を行った結果,磁場が強くなるに従って表面粗さRyは約20~60%減少し,平面度Δhも約15~60%減少した。(著者抄録)

シソーラス用語： *磁性流体 ,  *研磨剤 ,  *試験 ,  ラッピング ,  基板 ,  電気装置部品 ,  表面粗さ ,  平坦性 ,  磁場 ,  試作 ,  砥粒 ,  粒度依存性
準シソーラス用語： ガラス基板 ,  *研磨試験 ,  平面度 ,  粒径依存

分類 (2件)： 研削  (QC03000R) ,  磁性流体  (BM06090W)

引用文献 (10件)：

• 1) IMANAKA O. Proc. of Spring Conference of JSPE, 1981. (1981) vol.774,
• 2) TANI Y. Production Engineering. (1983) vol.35, no.12, p.531-539.
• 3) TAKETOMI S. Fundamental of magnetic fluid. Nikkan-Kogyo Pub.. (1988) p.153-172.
• 4) SHIMOIIZAKA J. Bulletin of the Japan Institute of Metals. (1976) vol.15, no.22, p.77-82.
• 5) UMEHARA N. Magnetic Fluid Grinding-A New Technique for Finishing Advanced Ceramics. Ann.CIRP. (1994) vol.43,1, p.185. doi:10.1016/S0007-8506(07)62192-1

タイトルに関連する用語 (3件)： 磁性流体 ,  研磨液 ,  ラッピング