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J-GLOBAL ID：200902294737207612   整理番号：08A1199969

ハニカムパターン高分子膜の熱収縮による高度配向ナノピットアレイの調製

Preparation of Highly Oriented Nano-Pit Arrays by Thermal Shrinking of Honeycomb-Patterned Polymer Films

著者 (9件)： YABU Hiroshi (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  JIA Ruokun (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  MATSUO Yasutaka (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  IJIRO Kuniharu (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  YAMAMOTO Sada-aki (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  NISHINO Fumiaki (Mitsui Chemicals Inc., Chiba, JPN) ,  TAKAKI Toshihiko (Mitsui Chemicals Inc., Chiba, JPN) ,  KUWAHARA Masahiro (Mitsui Chemicals Inc., Chiba, JPN) ,  SHIMOMURA Masatsugu (Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名： Advanced Materials  (Advanced Materials)
巻： 20  号： 21  ページ： 4200-4204  発行年： 2008年11月03日 
JST資料番号： W0001A  ISSN： 0935-9648  CODEN： ADVMEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 湿潤条件下で高分子溶液をキャスト製膜すると呼気像(breath figure)が形成され,水分を蒸発させるとハニカム構造が得られる。この高分子膜を熱収縮性基板に接着させ,過熱して基板と一緒に収縮させることによってさまざまな形状の高度配向ナノピットアレイを調製する方法を提案した。この方法を用いてポリスチレン,ポリブタ-1,2-ジエンのナノピットアレイを調製し,走査電子顕微鏡法によって熱収縮に伴うピット形状の変化を調べた。

シソーラス用語： *高分子膜 ,  *アレイ ,  *多孔質体 ,  ポリスチレン ,  ポリブタジエン ,  ハニカム構造
準シソーラス用語： *平面アレイ

分類 (2件)： 固-気界面一般  (CB12041H) ,  高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

物質索引 (1件)： 2-(4-ニトロ-α-ヒドロキシベンジル)アクリル酸メチル

タイトルに関連する用語 (5件)： 高分子膜 ,  熱収縮 ,  高度 ,  配向 ,  調製