文献

J-GLOBAL ID：200902295364087910   整理番号：03A0300011

表面波プラズマ酸化における希ガス添加の効果

著者 (4件)： 後藤真志 (液晶先端技術開発セ) ,  岡本哲也 (液晶先端技術開発セ) ,  東和文 (液晶先端技術開発セ) ,  中田行彦 (液晶先端技術開発セ)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 50th  号： 1  ページ： 163  発行年： 2003年03月27日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *プラズマ化学反応 ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=03A0300011&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Y0054A") }}

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  プラズマ診断  (BJ02090L)

タイトルに関連する用語 (3件)： 表面波プラズマ ,  酸化 ,  希ガス