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J-GLOBAL ID：200902295426500215   整理番号：09A0721952

抗力低減界面活性剤溶液に関するせん断効果の小角中性子散乱研究

Small-angle neutron scattering study of shearing effects on drag-reducing surfactant solutions

著者 (7件)： QI Yunying (The Dep. of Chemical and Biomolecular Engineering, The Ohio State Univ., Columbus, OH 43210, USA) ,  LITTRELL Kenneth (Oak Ridge National Lab., MS 6393 Oak Ridge, TN 37831-6393, USA) ,  THIYAGARAJAN Pappannan (Office of Basic Energy Sciences, U.S. Dept. of Energy, 1000 Independence Ave., SW, Washington, DC 20585, USA) ,  TALMON Yeshayahu (Dep. of Chemical Engineering, Technion-Israel Inst. of Technol., Haifa 32000, ISR) ,  SCHMIDT Judith (Dep. of Chemical Engineering, Technion-Israel Inst. of Technol., Haifa 32000, ISR) ,  LIN Zhiqing (The Dep. of Chemical and Biomolecular Engineering, The Ohio State Univ., Columbus, OH 43210, USA) ,  ZAKIN Jacques L. (The Dep. of Chemical and Biomolecular Engineering, The Ohio State Univ., Columbus, OH 43210, USA)
資料名： Journal of Colloid and Interface Science  (Journal of Colloid and Interface Science)
巻： 337  号： 1  ページ： 218-226  発行年： 2009年09月01日 
JST資料番号： C0279A  ISSN： 0021-9797  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 抗力低減界面活性剤溶液は,せん断に非常に敏感である。せん断は,抗力低減有効性および流動特性に影響を及ぼすナノ構造転移を誘導することができる。種々のミセル溶液に対するせん断の効果に関する文献報告は相反する。本論文では,それぞれ非常に異なるナノ構造体および流体力学的挙動を有する3つの陽イオン抗力低減界面活性剤であるArquad 16-50/サリチル酸ナトリウム(NaSal)(5mM/5mM)(糸状ミセル,せん断誘起構造および大きな第1の垂直応力(N₁)を有する),Arquad S-50/NaSal(5mM/12.5mM)(分岐ミセルを有し,せん断誘起構造をもたず,第1垂直応力は約0である)およびArquad 16-50/3,4-ジメチル安息香酸ナトリウム(5mM/5mM)(ベシクルおよび糸状ミセル,せん断誘起構造および高い第1垂直応力(N₁)を有する)の溶液に対するせん断の効果を,低温透過型電子顕微鏡法(低温-TEM)によるそれらの流動特性,抗力低減挙動およびナノ構造とともに小角中性子散乱(SANS)によって研究した。せん断に対する2段階応答にもとづいて,せん断に対するナノ構造体の異なる応答によって流体力学的挙動および溶液のSANSデータの差異を説明した。Copyright 2009 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *抗力 ,  *界面活性剤 ,  *剪断 ,  小角中性子散乱 ,  法線応力 ,  ベシクル ,  ミセル
準シソーラス用語： 垂直応力

分類 (2件)： ミセル  (CB11020N) ,  固-固界面  (CB12060M)

タイトルに関連する用語 (6件)： 抗力低減 ,  界面活性剤 ,  溶液 ,  せん断 ,  小角中性子散乱 ,  研究