文献

J-GLOBAL ID：200902295639206140   整理番号：06A0913793

半導体露光装置におけるディストーション調整の最適化

Optimum Adjustment for Distortion in Semiconductor Lithography Equipment

著者 (3件)： 深川容三 (キヤノン) ,  品野勇治 (東京農工大 大学院共生科学技術研究部) ,  中森眞理雄 (東京農工大 大学院共生科学技術研究部)
資料名： 日本機械学会論文集 C編  (Transactions of the Japan Society of Mechanical Engineers. Series C)
巻： 72  号： 722  ページ： 3378-3382  発行年： 2006年10月25日 
JST資料番号： F0045B  ISSN： 0387-5024  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 半導体露光装置のディストーション調整は,その最大絶対値を最小...

シソーラス用語： *半導体 ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (6件)：

• FLACK, W. W. Efficient overlay optimization of stepper correctables. Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography X Proceedings, 1996. 1996, 400-413
• AOKI, A. Method for Correcting Alignment Error in Aligner and Aligner Using it, JP10-022190. Patent journal. 1998
• IGNIZIO, J. P. Linear Programming in Single-& Multiple-Objective Systems. 1982
• MORI, M. Operations Research. 2004, 78-79
• KONNO, H. Linear Programming. 1987

タイトルに関連する用語 (3件)： 露光装置 ,  ディストーション ,  最適化