文献

J-GLOBAL ID：200902297943642502   整理番号：04A0115994

シリコンナノブロックの配列秩序形成と薄膜生成システムの実用化

著者 (3件)： 岩田康嗣 (産業技術総合研 クラスタープロセス連携研究体) ,  武藤麻紀子 (産業技術総合研 クラスタープロセス連携研究体) ,  大木美加 (産業技術総合研 クラスタープロセス連携研究体)
資料名： レーザ加工学会誌  (Journal of Japan Laser Processing Society)
巻： 10  号： 3  ページ： 289-292  発行年： 2003年12月 
JST資料番号： L3905A  ISSN： 1881-6797  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 粒径の揃った2~3nmのシリコンナノブロックの配列秩序を形成...

シソーラス用語： 配列 ,...
準シソーラス用語： シリコンナノブロック ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=04A0115994&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=L3905A") }}

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (2件)： 薄膜生成 ,  実用化