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J-GLOBAL ID：200902298712432331   整理番号：08A0359509

曝気媒体中でのラジカル重合用の新しい高効率共開始剤としてのシラン

Silanes as New Highly Efficient Co-initiators for Radical Polymerization in Aerated Media

著者 (5件)： LALEVEE J. (Univ. Haute Alsace, Mulhouse, FRA) ,  DIRANI A. (Univ. Haute Alsace, Mulhouse, FRA) ,  EL-ROZ M. (Univ. Haute Alsace, Mulhouse, FRA) ,  ALLONAS X. (Univ. Haute Alsace, Mulhouse, FRA) ,  FOUASSIER J. P. (Univ. Haute Alsace, Mulhouse, FRA)
資料名： Macromolecules  (Macromolecules)
巻： 41  号： 6  ページ： 2003-2010  発行年： 2008年03月25日 
JST資料番号： B0952A  ISSN： 0024-9297  CODEN： MAMOBX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ベンゾフェノン等の光開始剤を用いたジアクリラート類の紫外線/可視光照射によるラジカル重合にて,有機ケイ素化合物を共開始剤として用いることで酸素による重合禁止効果を抑制ないし軽減できた。約20種類の有機ケイ素化合物の曝気および非曝気条件での効果を,禁止効果が知られているアミン系共開始剤と比較して調べた。いずれもアミン系共開始剤よりも重合開始性で優れていた。特にイソプロピルチオキサントン/トリス(トリメチルシリル)シラン系を用いることで,曝気媒体中の方が非曝気条件よりも重合速度が2倍高くなった。重合コーティング膜の硬度と疎水性を調べた。レーザ閃光分解により,酸素とシリルラジカルが関与する反応機構を考察した。

シソーラス用語： *ラジカル重合 ,  光開始剤 ,  *重合開始剤 ,  酸素エアレーション ,  酸素 ,  *有機ケイ素化合物 ,  光重合 ,  紫外線照射 ,  重合抑制剤 ,  反応速度 ,  高分子膜 ,  硬度 ,  疎水性 ,  接触角 ,  反応機構 ,  スカベンジャー ,  ラジカル ,  閃光分解 ,  ポリアクリル酸エステル ,  芳香族ケトン ,  脂環式ケトン ,  二環モノテルペン ,  ジケトン ,  *共開始剤 ,  重合速度 ,  遊離基スカベンジャー
準シソーラス用語： ラジカル捕捉剤

分類 (2件)： 重合触媒,重合開始剤  (CG04070V) ,  有機けい素化合物  (CF08030C)

物質索引 (26件)： ベンゾフェノン ,  4-イソプロピルチオキサントン ,  カンファーキノン ,  トリエチルシラン ,  ジメチルフェニルシラン ,  ジフェニルシラン ,  トリフェニルシラン ,  オクタデシルシラン ,  ヘキサン-1,6-ジオールジアクリラート ,  トリプロピレングリコールジアクリラート ,  1,1,1,3,3,3-ヘキサメチル-2-(トリメチルシリル)トリシラン ,  (ジエチルアミノ)ジメチルシラン ,  イミノビス(ジメチルシラン) ,  トリス(tert-ブチルアミノ)シラン ,  1,1,1,2,2-ペンタメチルジシラン ,  1,1,3,3,5,5-ヘキサメチルペンタントリシロキサン ,  1,1,3,3,5,5,7,7-オクタメチルヘプタンテトラシロキサン ,  1,1,3,3,5,5,7,7,9,9,11,11,13,13,15,15,17,17,19,19,21,21,23,23-テトラコサメチルトリコサンドデカシロキサン ,  (3,3,4,4,5,5,6,6,6-ノナフルオロヘキシル)ジイソプロピルシラン ,  (メチルイミノ)ビス(トリメチルシラン) ,  テトラキス(ジメチルアミノ)シラン ,  ジフェニルクロロシラン ,  2,4,6,8-テトラメチルシクロオクタンテトラシロキサン ,  1,1,1,5,5,5-ヘキサメチル-3-(トリメチルシリルオキシ)ペンタントリシロキサン ,  1,1,1,5,5,5-ヘキサメチル-3-(トリメチルシリルオキシ)-3-フェニルペンタントリシロキサン ,  (1,4-フェニレン)ビス(ジメチルシラン)

タイトルに関連する用語 (6件)： 曝気 ,  媒体 ,  ラジカル重合 ,  高効率 ,  共開始剤 ,  シラン