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J-GLOBAL ID：200902298874039102   整理番号：08A1215126

30.4nmのHe-II放射のための高反射率多層

High reflectivity multilayer for He-II radiation at 30.4 nm

著者 (13件)： ZHU Jingtao ,  WANG Zhanshan ,  ZHANG Zhong ,  WANG Fengli ,  WANG Hongchang ,  WU Wenjuan ,  ZHANG Shumin ,  XU Da ,  CHEN Lingyan ,  ZHOU Hongjun ,  HUO Tonglin ,  CUI Mingqi ,  ZHAO Yidong
資料名： Applied Optics  (Applied Optics)
巻： 47  号： 13  ページ： C310  発行年： 2008年05月01日 
JST資料番号： B0026B  ISSN： 1559-128X  CODEN： APOPAI  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： SiC/MgとB₄C/Mo/Si多層膜を30.4nmのHe-II放射用に設計した。これら多層膜は直流電流マグネトロンシステムで調製し,中国国立シンクロトロン放射研究所で測定した。測定した反射率は,12度の入射角においてSiC/Mg多層膜で38.0%,5度の入射角においてB₄C/Mo/Si多層で32.5%であった。非周期SiC/Mg多層膜を用いて,二重機能多層鏡を設計した。アニーリング実験を行ない,SiC/Mg多層膜の熱安定性を検討した。アニーリング前後のSiC/Mg多層膜の界面をX線発光スペクトルで調べた。アニーリング後の界面では熱反応生成物が存在しないことが分かった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *多層膜 ,  反射率 ,  *反射鏡 ,  ヘリウム ,  遷移放射 ,  真空紫外線 ,  炭化ケイ素 ,  モリブデン ,  ケイ素 ,  炭化ホウ素 ,  光学設計 ,  マグネトロンスパッタリング ,  入射角 ,  熱安定性 ,  焼なまし ,  界面 ,  多層

分類 (2件)： 光デバイス一般  (BD06010L) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (4件)： He ,  放射 ,  高反射率 ,  多層