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J-GLOBAL ID:200902299349602820   整理番号:09A0171626

化学気相蒸着による任意の基板上の大面積で数層のグラフェン膜

Large Area, Few-Layer Graphene Films on Arbitrary Substrates by Chemical Vapor Deposition
著者 (8件):
資料名:
巻:号:ページ: 30-35  発行年: 2009年01月 
JST資料番号: W1332A  ISSN: 1530-6984  CODEN: NALEFD  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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酸化ケイ素/ケイ素基板上に作製したニッケル膜上に,化学気相蒸着によりグラフェン薄膜を作製し,原子間力顕微鏡により観察した。基板全体にわたり,1~12層の薄膜を最大20μmの範囲で作成できた。ニッケル薄膜のエッチングによりグラフェン薄膜をポリメタクリル酸メチル膜あるいはガラス上に移し,透過型電子顕微鏡,Raman分光法,光学透過率測定,電気伝導率を調べた。また,ニッケル薄膜をあらかじめパターニングしておくことで,グラフェンのパターンを作製できた。
シソーラス用語:
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分類 (2件):
分類
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界面化学一般  ,  薄膜成長技術・装置 
タイトルに関連する用語 (4件):
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