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J-GLOBAL ID：200902299513245464   整理番号：07A0334395

CVRD(Chemical Vapor Reductive Deposition)法による機能性薄膜の特性向上

Promotion of Functional Thin Film by CVRD (Chemical Vapor Reductive Deposition)
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著者 (3件)：
吉永勝己

吉永勝己 について

(東北大 多元物質科研)

東北大 多元物質科研 について

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山本勝俊

山本勝俊 について

(東北大 多元物質科研)

東北大 多元物質科研 について

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村松淳司

村松淳司 について

(東北大 多元物質科研)

東北大 多元物質科研 について


資料名：
東北大学多元物質科学研究所素材工学研究い報  (Bulletin of the Advanced Materials Processing Building, IMRAM Tohoku University)

東北大学多元物質科学研究所素材工学研究い報 について


巻： 62  号： 1-2  ページ： 55-63  発行年： 2007年03月01日 
JST資料番号： F0434B  ISSN： 1348-4052  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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液相還元選択析出を気相中での材料合成法として発展させ,基板表...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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還元

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分類 (1件)：
分類
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薄膜成長技術・装置 
(BK14020I)

薄膜成長技術・装置 について

タイトルに関連する用語 (2件)：
タイトルに関連する用語
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, 
機能性薄膜

機能性薄膜 について


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