低圧O<sub>2</sub>ガス中での中性クラスター堆積によって形成された発光性Si薄膜

HONDA Y.; TAKEI M.; OHNO H.; SHIDA S.; GODA K.

文献

J-GLOBAL ID：200902299534143785 整理番号：05A0639387

低圧O₂ガス中での中性クラスター堆積によって形成された発光性Si薄膜

Light-emitting Si films formed by neutral cluster deposition in a thin O₂ gas

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巻： 113 号： 3-4 ページ： 279-284 発行年： 2005年06月
JST資料番号： D0731A ISSN： 0022-2313 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

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