特許
J-GLOBAL ID：200903000000468644

光触媒反応装置

発明者：
山村 健治

山村 健治 について


出願人/特許権者：
住友重機械工業株式会社

住友重機械工業株式会社 について


代理人 (1件)： 光来出 良彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-207369
公開番号（公開出願番号）：特開平11-033357
出願日： 1997年07月17日
公開日（公表日）： 1999年02月09日
要約：
【要約】【課題】 光触媒反応装置内に光触媒担持体を高密度に配置することができ、光触媒反応装置において集光、光伝送、照射等のシステムを特に必要とせず、光触媒表面における反応効率を高め、且つ光供給を効率よくできるガス中の汚染物質を光触媒反応により効率良く浄化する光触媒反応装置を提供する。【解決手段】 ガス導入部1とガス排出部6を有する反応槽2の中に光触媒を担持した平板状光散乱体3を複数個高密度に配置する。平板状光散乱体3は、一端部に光源4から照射された光を内部に入射させるための受光部9が形成され、受光部9以外の面から外部へ光を散乱することができ、且つ受光部9以外の表面に光触媒を担持したものである。平板状光散乱体3の反応槽2の配置は、光源4から照射された光を受光部9から平板状光散乱体3の内部に直接入射可能なように、光源4と平板状光散乱体3の位置を決定することにより、例えば、光源4に平板状光散乱体3の受光部9を向かい合わせるように配置することにより、反応槽2の中に平板状光散乱体3を高密度に配置可能とした。
請求項（抜粋）：
一端部に光源から照射された光を内部に入射させるための受光部が形成され、受光部以外の面から外部へ光を散乱することができ、且つ受光部以外の表面に光触媒を担持した光散乱体を、ガス導入部とガス排出部を有する反応槽の中に複数個配置し、該光散乱体の該反応槽の配置は、該光源から照射された光を該受光部から該光散乱体の内部に直接入射可能なように、該光源と該光散乱体の配置を決定することにより、反応槽の中に該光散乱体を密に配置可能としたことを特徴とするガス中の汚染物質を分解、無害化することができる光触媒反応装置。
IPC (3件)：
B01D 53/86 ,  A61L 9/20 ,  B01J 35/02 ZAB
FI (3件)：
B01D 53/36 J ,  A61L 9/20 ,  B01J 35/02 ZAB J
引用特許：
審査官引用 (7件)
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