特許

J-GLOBAL ID：200903000003108282

受光素子およびその製造方法、光モジュール、並びに、光伝達装置

発明者： 望月 理光
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (2件)： 布施 行夫 ,  大渕 美千栄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-363245
公開番号（公開出願番号）：特開2006-173329
出願日： 2004年12月15日
公開日（公表日）： 2006年06月29日
要約：

【課題】 集積化の容易な受光素子およびその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明に係る受光素子100は, 基板101と、 基板101の上方に形成された第1コンタクト層112と、 第1コンタクト層112の上方に形成された光吸収層114と、 光吸収層114の上方に形成された第2コンタクト層116と、 第2コンタクト層116の上方に形成された集光レンズ170と、を含み、 光吸収層114および第2コンタクト層116のうちの少なくとも一方は、面方向に周期的な屈折率分布を有するフォトニック結晶領域140を有し、 フォトニック結晶領域140は、欠陥領域142を有する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板と、 前記基板の上方に形成された第1コンタクト層と、 前記第1コンタクト層の上方に形成された光吸収層と、 前記光吸収層の上方に形成された第2コンタクト層と、 前記第2コンタクト層の上方に形成された集光レンズと、を含み、 前記光吸収層および前記第2コンタクト層のうちの少なくとも一方は、面方向に周期的な屈折率分布を有するフォトニック結晶領域を有し、 前記フォトニック結晶領域は、欠陥領域を有する、受光素子。

IPC (3件)：

H01L 31/10 ,  G02B 6/42 ,  H01L 31/023

FI (3件)：

H01L31/10 A ,  G02B6/42 ,  H01L31/02 D

Fターム (32件)：

2H137AB05 ,  2H137AB06 ,  2H137BA01 ,  2H137BB02 ,  2H137BB12 ,  2H137BB25 ,  2H137BC02 ,  2H137BC10 ,  2H137BC14 ,  2H137BC31 ,  2H137CA01 ,  2H137DA12 ,  2H137DA19 ,  2H137DA39 ,  5F049MA02 ,  5F049MA04 ,  5F049MA07 ,  5F049MB07 ,  5F049NA10 ,  5F049NA19 ,  5F049NB01 ,  5F049PA02 ,  5F049PA04 ,  5F049PA14 ,  5F049SS04 ,  5F049SZ20 ,  5F049TA12 ,  5F088AA03 ,  5F088AB07 ,  5F088BA18 ,  5F088JA12 ,  5F088JA14