特許
J-GLOBAL ID:200903000005830210
共役アリーレン及びヘテロアリーレンビニレンポリマの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
三俣 弘文
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-296034
公開番号(公開出願番号):特開平7-188331
出願日: 1994年11月07日
公開日(公表日): 1995年07月25日
要約:
【要約】【目的】 カルボニル基が生成されにくい新規なポリ(p-フェニレンビニレン)の製造方法を提供する。【構成】 フォーミングガスの存在下で150〜300°Cの範囲内の温度でポリマ先駆体の熱転化を行うことにより、共役アリーレン又はヘテロアリーレン ビニレンポリマを製造する。フォーミングガスの存在はカルボニル基の生成を抑制し、その結果、ポリマの光ルミネセンスを高め、かつ、エレクトロルミネセンス効率を高める。
請求項(抜粋):
下記の一般式(化1)、【化1】{式中、R1はベンゼン、置換ベンゼン、アントラセン、ナフタレン、アルキル置換ベンゼン及びアルコキシ置換ベンゼン並びに5員環複素環式基からなる群から選択され、R2及びR4は水素及びフェニル基からなる群から選択され、R3は高温度で脱離されて二重結合を生成できる有機基であるか、又はOR5基(ここで、R5は水素及びメチル基からなる群から選択される)基である}で示される先駆体ポリマを熱転化することからなり、熱転化はフォーミングガスの存在下で150〜300°Cの範囲内の温度で行われることを特徴とする共役アリーレン及びヘテロアリーレンビニレンポリマの製造方法。
引用特許:
審査官引用 (11件)
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特開平4-103621
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特開平3-273087
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特開平3-244630
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特開平3-152122
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特開平1-254734
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特開昭64-079217
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特開昭64-020234
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特開昭63-273631
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特開昭63-178138
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特開昭61-162518
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特開昭60-011528
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