特許
J-GLOBAL ID:200903000007821668

局部洗浄装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西川 惠清 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-333906
公開番号(公開出願番号):特開2000-160636
出願日: 1998年11月25日
公開日(公表日): 2000年06月13日
要約:
【要約】【課題】 遊離塩素による局部洗浄時の痛みや肌荒れや炎症を緩和あるいは防止することができる局部洗浄装置を提供する。【解決手段】 給水経路1の途中に収納部2を設ける。塩素を除去するための塩素除去剤3を収納部2に充満させないで収納する。給水経路1から供給される水道水を収納部2に通過させて塩素除去剤3を溶解させることによって、水道水に含まれる遊離塩素を溶解した塩素除去剤3で除去することができ、遊離塩素3を除去した水道水を局部洗浄水として局部の洗浄に利用することができる。
請求項(抜粋):
給水経路の途中に収納部を設け、塩素を除去するための塩素除去剤を収納部に充満させないで収納して成ることを特徴とする局部洗浄装置。
IPC (3件):
E03D 9/08 ,  C02F 1/58 ,  E03D 9/02
FI (3件):
E03D 9/08 B ,  C02F 1/58 L ,  E03D 9/02
Fターム (8件):
2D038JB08 ,  2D038JC01 ,  2D038JF04 ,  2D038ZA03 ,  4D038AA04 ,  4D038AB39 ,  4D038BA01 ,  4D038BB17
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 塩素除去装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-046078   出願人:真野工業株式会社
  • 温水洗浄便座
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-279701   出願人:東陶機器株式会社

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