特許

J-GLOBAL ID：200903000021034717

水浸構造物の防汚方法および防汚膜を有する水浸構造物

発明者： 久保田 伸彦 ,  綾部 統夫 ,  田中 瑞乃 ,  根目沢 礼和
出願人/特許権者： 石川島播磨重工業株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-253934
公開番号（公開出願番号）：特開平11-092317
出願日： 1997年09月18日
公開日（公表日）： 1999年04月06日
要約：

【要約】【課題】 水浸構造物、特に、船舶および海洋構造物の防汚,防食を行い、水浸構造物の表面の経年変化を防止して長寿命化を図るとともに、防汚作業等のメンテナンス性を向上させ、かつ海洋の環境汚染を防止する。【解決手段】 水浸構造物の被防汚表面にTiO2 膜を形成しておくとともに、該TiO2 膜への光照射により光触媒反応を発生させ、光照射に基づいて生じる酸化力によって、被防汚表面の近傍に浮遊または遊泳する微生物等の殺菌,滅菌,繁殖防止を行う。

請求項（抜粋）：

水浸構造物(X)の防汚方法であって、被防汚表面(3)にTiO2 膜(T)を形成しておくとともに、該TiO2 膜への光照射により光触媒反応を発生させ、光照射に基づいて生じる酸化力によって被防汚表面の近傍に浮遊または遊泳する微生物等の殺菌,滅菌,繁殖防止を行うことを特徴とする水浸構造物の防汚方法。

IPC (5件)：

A01N 59/16 ,  A01N 25/00 102 ,  B63B 59/04 ,  B65B 33/04 ,  C09D 5/16

FI (5件)：

A01N 59/16 Z ,  A01N 25/00 102 ,  B63B 59/04 Z ,  B65B 33/04 ,  C09D 5/16

引用特許：

審査官引用 (7件)

• 雑菌繁殖防止体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-349626   出願人：工業技術院長, 株式会社加藤機械製作所, 株式会社アイワ
• 特開昭61-083106
  
• 特開平3-008448
  
• 塗料組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-258590   出願人：財団法人山形県テクノポリス財団, 日本油脂株式会社
• 特開昭57-144187
  
• 特開平2-053879
  
• 医科・歯科用診療機材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-216017   出願人：株式会社モリタ製作所