特許

J-GLOBAL ID：200903000024322144

ケイ素/酸化ケイ素の面平行な構造

発明者： ブヤルト,パトリーチェ ,  レイバッハ,ホルガー ,  ヴァイネルト,ヒルマール
出願人/特許権者： チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド
代理人 (3件)： 津国 肇 ,  篠田 文雄 ,  束田 幸四郎
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-513386
公開番号（公開出願番号）：特表2005-529835
出願日： 2003年06月16日
公開日（公表日）： 2005年10月06日
要約：

本発明は、SiOy(0.70≦y≦1.8)の面平行な構造を無酸素雰囲気中400°Cを超える温度で加熱することによって得られるケイ素/酸化ケイ素の面平行な構造(ケイ素/酸化ケイ素フレーク)又はSiOx(0.03≦x≦0.95)の面平行な構造を無酸素雰囲気中400°Cを超える温度で加熱することによって得られるケイ素/酸化ケイ素の面平行な構造、その製造方法及び干渉顔料の製造のためのその使用に関する。

請求項（抜粋）：

SiOy(0.70≦y≦1.8)の面平行な構造を無酸素雰囲気中400°Cを超える温度で加熱することによって得られるケイ素/酸化ケイ素の面平行な構造又はSiOx(0.03≦x≦0.95、特に0.05≦x≦0.50、とりわけ0.10≦x≦0.30)の面平行な構造を無酸素雰囲気中400°Cを超える温度で加熱することによって得られるケイ素/酸化ケイ素の面平行な構造。

IPC (6件)：

C01B33/113 ,  A61K7/00 ,  C08K3/34 ,  C08L101/00 ,  C09C1/28 ,  C09D11/00

FI (6件)：

C01B33/113 Z ,  A61K7/00 B ,  C08K3/34 ,  C08L101/00 ,  C09C1/28 ,  C09D11/00

Fターム (63件)：

4C083AB171 ,  4C083AB172 ,  4C083BB21 ,  4C083CC01 ,  4C083DD17 ,  4C083DD21 ,  4C083EE07 ,  4C083FF01 ,  4G072AA24 ,  4G072BB05 ,  4G072GG03 ,  4G072HH01 ,  4G072HH13 ,  4G072HH14 ,  4G072JJ28 ,  4G072MM01 ,  4G072MM21 ,  4G072MM22 ,  4G072MM23 ,  4G072MM26 ,  4G072MM28 ,  4G072MM31 ,  4G072MM36 ,  4G072TT30 ,  4G072UU07 ,  4G072UU30 ,  4J002AB011 ,  4J002AB021 ,  4J002AB031 ,  4J002AC001 ,  4J002AC121 ,  4J002BB021 ,  4J002BB061 ,  4J002BB111 ,  4J002BB181 ,  4J002BC021 ,  4J002BD031 ,  4J002BF021 ,  4J002BG041 ,  4J002BG061 ,  4J002BG091 ,  4J002BN151 ,  4J002CC161 ,  4J002CC181 ,  4J002CF001 ,  4J002CF211 ,  4J002CK021 ,  4J002CL001 ,  4J002CP031 ,  4J002DJ006 ,  4J002DJ016 ,  4J002FD096 ,  4J002GB00 ,  4J002GH00 ,  4J002GH01 ,  4J037AA17 ,  4J037AA18 ,  4J037CA08 ,  4J037EE25 ,  4J037EE47 ,  4J039BA21 ,  4J039BE01 ,  4J039GA24

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 着色光沢顔料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-107990   出願人：チバスペシャルティケミカルズホールディングインコーポレーテッド