特許
J-GLOBAL ID:200903000029968239

レーザプラズマX線源

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 作田 康夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-325017
公開番号(公開出願番号):特開2001-143893
出願日: 1999年11月16日
公開日(公表日): 2001年05月25日
要約:
【要約】【課題】ターゲットがガスなどの気体の場合、X線発生効率を向上できるレーザプラズマX線源を提供すること。【解決手段】プラズマ生成に寄与せず透過するレーザ光を反射させ再度プラズマに入射させる反射部材を備えるレーザプラズマX線源により達成される。
請求項(抜粋):
真空容器内でレーザ光をターゲットに照射してプラズマを生成し、そのプラズマからX線を発生させるレーザプラズマX線源において、プラズマ生成に寄与せず透過する前記レーザ光を反射させ再度プラズマに入射させる反射部材を備えるレーザプラズマX線源。
IPC (4件):
H05G 2/00 ,  G21K 1/00 ,  H05G 1/02 ,  H05H 1/24
FI (4件):
G21K 1/00 X ,  H05G 1/02 L ,  H05H 1/24 ,  H05G 1/00 K
Fターム (6件):
4C092AA06 ,  4C092AA14 ,  4C092AB21 ,  4C092AC09 ,  4C092CD10 ,  4C092CE20

前のページに戻る