特許
J-GLOBAL ID:200903000036647316

欠陥検査装置およびその方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小川 勝男 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-206078
公開番号(公開出願番号):特開2000-105203
出願日: 1999年07月21日
公開日(公表日): 2000年04月11日
要約:
【要約】【課題】基板上にパターンを形成し対象物を製作して行く製造工程で発生する異物等の欠陥を検出する際に、パターンからの回折光を低減するために回折光が入らない方向から直線上の高効率照明を実現し、パターンによる信号のばらつきに応じてしきい値を設定することにより、検出感度およびスループットを向上する欠陥検査装置およびその方法を提供することにある。【解決手段】本発明では、パターンからの散乱光を低減する方向から照明する高効率照明光学系により、信号のばらつきの原因であるパターンからの散乱光を低減し、さらに、チップ内の領域毎に算出した信号のばらつきをもとにしきい値を設定する手段により、検出しきい値を低減し、検出感度の向上およびスループットの向上を実現する。
請求項(抜粋):
長手方向にはほぼ平行光からなるスリット状ビームを、回路パターンが形成された被検査対象基板に対して、該基板の法線方向から所定の傾きを有し、前記回路パターンの主要な直線群に対して平面上所定の傾きを有し、長手方向が前記被検査対象基板を載置して走行させるステージの走行方向に対してほぼ直角になるように照明する照明過程と、該照明過程で照明された被検査対象基板上に存在する異物等の欠陥から得られる反射散乱光をイメージセンサで受光して信号に変換して検出する検出過程と、該検出過程で検出された信号に基いて異物等の欠陥を示す信号を抽出する欠陥判定過程とを有することを特徴とする欠陥検査方法。
IPC (3件):
G01N 21/956 ,  G01B 11/30 ,  H01L 21/66
FI (3件):
G01N 21/956 B ,  G01B 11/30 A ,  H01L 21/66 J
引用特許:
審査官引用 (10件)
全件表示

前のページに戻る