特許
J-GLOBAL ID:200903000067783145

偏光解析方法およびこれによるエリプソメータ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 若林 忠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-194167
公開番号(公開出願番号):特開平6-034523
出願日: 1992年07月21日
公開日(公表日): 1994年02月08日
要約:
【要約】【目的】 基板の厚みが数mm程度であり、かつ、透明な材質であってもこれに対処することのできる偏光解析方法およびこれによるエリプソメータを実現すること。【構成】 試料表面に測定用の光を入射させ、その出射光の光強度値を理論式により得られた光強度値と比較することにより、試料を構成する基板または基板表面に付着した膜質を解析する偏光解析方法において、前記基板からの反射光を含めた理論式を、基板を通った後の反射光については他の反射光と干渉しないものとして考える。
請求項(抜粋):
試料表面に測定用の光を入射させ、その出射光の光強度値を理論式により得られた光強度値と比較することにより、試料を構成する基板または基板表面に付着した膜質を解析する偏光解析方法において、前記基板からの反射光を含めた理論式を、基板を通った後の反射光については他の反射光と干渉しないものとして考えることを特徴とする偏光解析方法。
IPC (2件):
G01N 21/21 ,  G01J 4/04
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開昭58-090148

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