特許
J-GLOBAL ID：200903000069307537
真空処理装置に於ける試料搬送方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-003073
公開番号（公開出願番号）：特開平8-191095
出願日： 1995年01月12日
公開日（公表日）： 1996年07月23日
要約：
【要約】【目的】本発明の目的は、試料被処理面を下向きに、搬送、処理を行うことにより、試料被処理面の異物付着の防止を行う真空処理装置に於ける試料搬送方法を提供することにある。【構成】試料被処理面を下向きにするに際し、各旋回アーム(3)(4)、ステージ(5)(6)(7)に陽極、陰極をもったタイポール電極を用い、試料被処理面裏面に静電吸着させ、搬送、処理を行う。試料(1)(2)を保持する静電吸着部である電極の電圧降下を検出することにより、試料(1)(2)の位置の検知を行う。試料が落下したときのため、各待機位置の下に保護ステージ(18)を設け試料の保護を行う。透過センサー(22)により保護ステージ(18)に試料が有ることを検知すると、この保護ステージ(18)にて試料の受け渡しを行う。上記工程を行うことにより、試料被処理面を下向きにし、搬送処理を行うものである。
請求項（抜粋）：
真空中にて、試料を搬送、処理を行なう装置の搬送方法において、前記試料の保持を電気的吸着力を利用した静電吸着力で行ない、試料被処理面を下向きにした状態で試料の搬入,処理,搬出を行なうことを特徴とする真空処理装置に於ける試料搬送方法。
IPC (3件)：
H01L 21/68
, B65G 47/92
, H01L 21/3065
