特許
J-GLOBAL ID：200903000073872133
膜状インダクタの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
丸岡 政彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-204721
公開番号（公開出願番号）：特開平7-045462
出願日： 1993年07月27日
公開日（公表日）： 1995年02月14日
要約：
【要約】【目的】 従来の膜状インダクタの製造方法では、膜状インダクタのインダクタンスを所定の範囲におさめるため、リュータやレーザ等の手段を用いて配線パターンの一部を削除してトリミングする方法が行われていたが、この方法では、大きな設備が必要で、過剰にトリミングをすると回復できない等の欠点があった。本発明の目的は、前記のトリミングを行わずに、膜状インダクタのインダクタンスを簡便に調整できる、膜状インダクタの製造方法を提供することにある。【構成】 金属またはフェライトの小片を膜状インダクタの上に置き、膜状インダクタのインダクタンスを計測しながら、前記小片を回路パターン上に沿って移動し、インダクタンスが所定の値になったとき、当該小片を絶縁性接着剤でその位置に固定する。
請求項（抜粋）：
基体の絶縁表面上に、導体からなるスパイラル状の回路パターンによって構成される膜状インダクタの製造方法において、強磁性酸化物材料からなる小片および導電性を有する金属からなる小片のいずれかを、前記膜状インダクタ上に配置した後、膜状インダクタのインダクタンスを計測しながら、回路パターン上に沿って当該小片を移動し、前記膜状インダクタのインダクタンスが所定値になったとき、当該小片をその位置に固定する工程を含むことを特徴とする膜状インダクタの製造方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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