特許
J-GLOBAL ID:200903000080218589
毛髪化粧料
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (7件):
特許業務法人アルガ特許事務所
, 有賀 三幸
, 高野 登志雄
, 中嶋 俊夫
, 的場 ひろみ
, 村田 正樹
, 山本 博人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-053709
公開番号(公開出願番号):特開2005-239664
出願日: 2004年02月27日
公開日(公表日): 2005年09月08日
要約:
【課題】毛髪を本質的に改質し、毛髪のツヤ、まとまり性を向上させ、感触に優れると共に、保存に対する香りの安定性に優れ、酸臭及び有機溶剤臭に対するマスキング効果が高く、使用時の香り立ちが良く、更には適度な強さの香りが髪に長く残る、洗い流さないタイプの毛髪化粧料の提供。 【解決手段】次の成分(A)、(B)及び(C) (A) 炭素数2〜8の有機ジカルボン酸又はその塩 (B) 芳香族アルコール、N-アルキルピロリドン、アルキレンカーボネート、ポリプロピレングリコール、ラクトン及び環状ケトンからなる群より選ばれる、ClogPが-2〜3である有機溶剤 (C) アセトフェノン、アセチルセドレン等の特定香気成分を含有し、水で20重量倍に希釈したときの25°CにおけるpHが2〜5である洗い流さないタイプの毛髪化粧料、並びにこれを用いて毛髪を処理する毛髪改質方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
次の成分(A)、(B)及び(C)
(A) 炭素数2〜8の有機ジカルボン酸又はその塩
(B) 芳香族アルコール、N-アルキルピロリドン、アルキレンカーボネート、ポリプロピレングリコール、ラクトン及び環状ケトンからなる群より選ばれる、ClogPが-2〜3である有機溶剤
(C) アセトフェノン、フェノキシ酢酸アリル、酢酸アニシル、アニシルアセトン、ベンゾフェノン、酢酸シンナミル、シトロネリルニトリル、酢酸ジメチルベンジルカルビニル、ジヒドロジャスモン、1-(5,5-ジメチル-1-シクロヘキセン-1-イル)-4-ペンテン-1-オン、エチル-2-シクロヘキシルプロピオネート、オイゲノール、エチル-2-t-ブチルシクロヘキシルカーボネート、エチル-トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-2-イル カルボキシレート、ゲラニルシクロペンタノン、ゲラニルニトリル、サリチル酸イソブチル、3,7-ジメチル-2(3),6-ノナジエンニトリル、リナロール、メチルアンスラニレート、メチル β-ナフチルケトン、ジヒドロジャスモン酸メチル、2-(2-(4-メチル-3-シクロヘキセン-1-イル)プロピル)シクロペンタノン、アセチルセドレン、1-(2-t-ブチルシクロヘキシルオキシ)-2-ブタノール、3α,6,6,9α-テトラメチルドデカヒドロナフト[2,1-b]フラン、6,7-ジヒドロ-1,1,2,3,3-ペンタメチル-4(5H)-インダノン、クマリン、3-メチル-5-(2,2,3-トリメチル-3-シクロペンテン-1-イル)-4-ペンテン-2-オール、ヘリオトロピン、ヘプチルシクロペンタノン、α-ヨノン、δ-デカラクトン、メチルヨノンガンマ、3-メチルシクロペンタデセノン、ムスクケトン、酢酸o-t-ブチルシクロヘキシル、3,3-ジメチル-5-(2,2,3-トリメチル-3-シクロペンテン-1-イル)-4-ペンテン-2-オール、酢酸p-t-ブチルシクロヘキシル、4-(パラハイドロキシフェニル)-2-ブタノン、酢酸トリシクロデセニル、プロピオン酸トリシクロデセニル、2,2,5-トリメチル-5-ペンチルシクロペンタノン及び2-メチル-4-(2,2,3-トリメチル-3-シクロペンテン-1-イル)-2-ブテン-1-オールからなる群より選ばれる1種以上の香気成分
を含有し、水で20重量倍に希釈したときの25°CにおけるpHが2〜5である洗い流さないタイプの毛髪化粧料。
IPC (3件):
A61K7/06
, A61K7/11
, A61K7/46
FI (3件):
A61K7/06
, A61K7/11
, A61K7/46 B
Fターム (41件):
4C083AA121
, 4C083AA122
, 4C083AB032
, 4C083AB282
, 4C083AC102
, 4C083AC122
, 4C083AC151
, 4C083AC152
, 4C083AC172
, 4C083AC182
, 4C083AC211
, 4C083AC212
, 4C083AC291
, 4C083AC292
, 4C083AC302
, 4C083AC471
, 4C083AC472
, 4C083AC692
, 4C083AC841
, 4C083AC842
, 4C083AC851
, 4C083AD041
, 4C083AD042
, 4C083AD072
, 4C083AD151
, 4C083AD282
, 4C083AD531
, 4C083AD532
, 4C083BB06
, 4C083BB41
, 4C083CC31
, 4C083CC32
, 4C083CC33
, 4C083DD08
, 4C083DD23
, 4C083DD27
, 4C083DD41
, 4C083EE06
, 4C083EE18
, 4C083EE21
, 4C083EE25
引用特許:
審査官引用 (15件)
-
毛髪化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-280611
出願人:サンスター株式会社
-
芳香性毛髪処理剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-037526
出願人:小川香料株式会社, サンスター株式会社
-
毛髪化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-198687
出願人:花王株式会社
-
毛髪化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-243779
出願人:花王株式会社
-
毛髪化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-240683
出願人:花王株式会社
-
毛髪化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-286644
出願人:花王株式会社
-
染毛剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-307326
出願人:花王株式会社
-
毛髪処理剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-211621
出願人:花王株式会社
-
染毛剤
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-308640
出願人:花王株式会社
-
頭皮臭用香料組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-338211
出願人:花王株式会社
-
消臭剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-374105
出願人:花王株式会社
-
毛髪化粧料用香料組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-086046
出願人:ハ-マンアンドライマ-株式会社
-
毛髪化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-289164
出願人:ライオン株式会社
-
毛髪化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-216371
出願人:花王株式会社
-
毛髪化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-027619
出願人:花王株式会社
全件表示
引用文献:
審査官引用 (1件)
-
周知・慣用技術集(香料)第1部 香料一般, 1999, pp.230-250
前のページに戻る