特許

J-GLOBAL ID：200903000098618444

水素製造装置

発明者： 酒井 修 ,  高橋 知典
出願人/特許権者： 日本碍子株式会社
代理人 (1件)： 渡邉 一平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-140341
公開番号（公開出願番号）：特開平8-040703
出願日： 1994年06月22日
公開日（公表日）： 1996年02月13日
要約：

【要約】【構成】 炭化水素および/または酸素原子を含む炭化水素を改質することにより水素含有ガスを得、この水素含有ガスから水素を分離する水素製造装置において、多孔質基体1と、多孔質基体1の所定表面に形成された水素を選択的に分離する水素分離膜4とからなり、炭化水素を改質するための改質触媒3が、多孔質基体1の細孔内部に担持されている。ハニカム状担体13に、該炭化水素を改質するための改質触媒14を担持し、ハニカム状担体13の下流側に位置した水素分離膜4を備えた水素製造装置である。【効果】 装置の単位体積当りの触媒表面積を大きくすることができ、装置を小型化できる。水素分離効率を向上させることができる。多孔質基体と容器の膨張の差に起因する水素分離装置の損傷を防ぐことができる。

請求項（抜粋）：

炭化水素および/または酸素原子を含む炭化水素を改質することにより水素含有ガスを得、この水素含有ガスから水素を分離する水素製造装置において、多孔質基体と、該多孔質基体の所定表面に形成された水素を選択的に分離する水素分離膜と、からなり、該炭化水素を改質するための改質触媒が、該多孔質基体の細孔内部に担持されていることを特徴とする水素製造装置。

IPC (4件)：

C01B 3/40 ,  B01D 53/22 ,  B01J 23/89 ,  C01B 3/50

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 水素製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-264601   出願人：三井造船株式会社
• 特開昭58-119337
  
• 特開平3-205303
  
• 水素分離膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-088723   出願人：三菱重工業株式会社