特許
J-GLOBAL ID：200903000123076090
ドライクリーニング方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-105768
公開番号（公開出願番号）：特開平6-318579
出願日： 1993年05月07日
公開日（公表日）： 1994年11月15日
要約：
【要約】【目的】主コイルと補助コイルとを備えたECRプラズマCVD装置を対象とし、NF3 ガスを装置内に導入し、これにプラズマ化エネルギーを供給しつつ装置内部をドライクリーニングの方法として、高価なNF3 ガスの使用量を大幅に減らすことのできるクリーニング方法を提供する。【構成】装置内のガス圧力と磁場形状もしくは磁場強度との組合わせにより効果的な反応生成物除去場所を変えながらクリーニングする方法として、装置全体としてのクリーニング時間を短縮する。クリーニング時間をより短縮するため、NF3 ガスにN2 ガスを添加ようにするとともに、両ガスの混合比により効果的な反応生成物除去場所が変わることを利用し、目的とする除去場所ごとに混合比を変える。
請求項（抜粋）：
軸方向端面にマイクロ波透過窓を備え導入されたガスにプラズマ化エネルギーを供給するプラズマ生成室と、基板の被処理面がマイクロ波透過窓と対面するように基板を保持する,高周波電力の印加可能にして基板温度を室温〜150°Cの範囲で変える加熱・冷却台を兼ねる基板ホールダと、プラズマ生成室内に電子サイクロトロン共鳴磁場領域を形成する主コイルと、主コイルと同軸に配され主コイルによる磁場に重畳される磁場を発生する補助コイルと、を備えた電子サイクロトロンプラズマCVD装置の内部に付着した反応生成物を、プラズマ生成室にNF3 ガスを導入して除去するドライクリーニングの方法において、クリーニング時のプラズマ生成内ガス圧力を5×10-4〜数Torrの範囲内に設定するようにするとともに、前記主コイルと補助コイルとにより、または主コイルのみにより装置内に磁場を形成するようにして、前記範囲内のガス圧力と磁場の形状または磁場強度との組合わせにより反応生成物除去の場所を変えつつクリーニングすることを特徴とするドライクリーニング方法。
IPC (3件)：
H01L 21/302
, C23C 16/44
, C23C 16/50
