ポジ型感光性組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-062378
公開番号（公開出願番号）：特開2001-249459
出願日： 2000年03月07日
公開日（公表日）： 2001年09月14日
要約：

【要約】【課題】レジストパターンの密/粗パターンのバランスが改良され、ラインエッジラフネスや露光マージンが改良されたポジ型フォトレジスト組成物を得る。【解決手段】活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、並びに式(I)、式(II)及び式(III)で表される繰り返し構造単位{R21は水素原子又はメチル基、R22は酸の作用により分解する基(但し、水酸基は除く)、R23は酸の作用により分解しない基(但し、水酸基は除く)、R24は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシル基又はアシロキシ基、nは1〜3の整数を表す}を含み、樹脂末端の少なくともいずれか一方にカルボキシル基を含む、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、を含有するポジ型感光性組成物。【化1】

請求項（抜粋）：

(a)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(b)下記一般式(I)、一般式(II)及び一般式(III) で表される繰り返し構造単位を含有し、且つ樹脂末端の少なくともいずれか一方にカルボキシル基を含有する、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。【化1】式(I)〜(III)中、R21は水素原子又はメチル基を表し、R22は酸の作用により分解する基(但し、水酸基は除く)を表し、R23は酸の作用により分解しない基(但し、水酸基は除く)を表し、R24は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシル基又はアシロキシ基を表す。nは1〜3の整数を表す。

IPC (6件)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/00 , C08L 25/18 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 504 , H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/00 , C08L 25/18 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 504 , H01L 21/30 502 R

Fターム (51件)：

2H025AA00 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB03 , 2H025AB15 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CC04 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J002BC121 , 4J002BG002 , 4J002CH052 , 4J002CP032 , 4J002DD006 , 4J002EB116 , 4J002ED038 , 4J002EH058 , 4J002EN007 , 4J002EN136 , 4J002EQ016 , 4J002ER027 , 4J002ES006 , 4J002EU027 , 4J002EU047 , 4J002EU117 , 4J002EU127 , 4J002EU137 , 4J002EU147 , 4J002EU186 , 4J002EU226 , 4J002EU237 , 4J002EV216 , 4J002EV246 , 4J002EV296 , 4J002EW176 , 4J002EY006 , 4J002EZ006 , 4J002FD206 , 4J002FD207 , 4J002FD312 , 4J002FD318 , 4J002GP03

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