特許

J-GLOBAL ID：200903000126311279

石英ガラスルツボの製造方法

発明者： 佐々木 泰実 ,  島井 駿蔵 ,  間宮 弘和 ,  遠藤 幸一 ,  青木 優
出願人/特許権者： 東芝セラミックス株式会社
代理人 (1件)： 田辺 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-220772
公開番号（公開出願番号）：特開平8-059262
出願日： 1994年08月24日
公開日（公表日）： 1996年03月05日
要約：

【要約】【目的】 シリコン単結晶中に取り込まれる金属不純物を減少でき、内側表面の荒れの原因となるエッチングの必要がなく、シリコン単結晶引上げ時の石英ガラスルツボの溶損量を低減して単結晶中の酸素濃度の増大を防止できる石英ガラスルツボの製法を提供する。【構成】 結晶質石英及び又は非結晶質石英ガラスから成る微細粒子を回転可能な中空型に供給してその内側に微細粒子成型層を形成し、この層を内面側から加熱して部分的に溶融させ、内層の比較的薄い部分を半融焼結状態にすると共に、層の残部を粒子状態のまま固定し、しかる後に冷却を行い、最後に石英ガラスルツボを中空型から取り出す石英ガラスルツボの製造方法において、加熱処理開始後の所定の段階で、微細粒子成型層の内側にガス状及び/又は液状の高純度シリコン化合物を供給することを特徴とする石英ガラスルツボの製造方法。

請求項（抜粋）：

結晶質石英及び又は非結晶質石英ガラスから成る微細粒子を回転可能な中空型に供給してその内側に微細粒子成型層を形成し、この層を内面側から加熱して部分的に溶融させ、内層の比較的薄い部分を半融焼結状態にすると共に層の残部を粒子状態のまま固定し、しかる後に冷却を行い、最後に石英ガラスルツボを中空型から取り出す石英ガラスルツボの製造方法において、加熱処理開始後の所定の段階で、微細粒子成型層の内側にガス状及び/又は液状の高純度シリコン化合物を供給することを特徴とする石英ガラスルツボの製造方法。

IPC (5件)：

C03B 20/00 ,  C03B 8/02 ,  C03B 8/04 ,  C30B 15/10 ,  C30B 29/06 502