特許
J-GLOBAL ID：200903000134568750
ポリッシュによる平坦化方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高月 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-089583
公開番号（公開出願番号）：特開平6-097133
出願日： 1991年03月28日
公開日（公表日）： 1994年04月08日
要約：
【要約】【目的】凸部と凹部とを有する被研摩材をポリッシュにより平坦化する場合に、凸部を所望のポリッシュ除去した際にも、凹部に不必要なポリッシュがなされることを防止した、段差のない良好な平坦化を達成できる平坦化方法の提供。【構成】凸部2と凹部3とを有する被研摩材1、例えば溝4の埋め込み等の全面への被膜の形成に伴い凹凸が生じた基板等の被研摩材1をポリッシュして、凸部2を研摩除去して平坦化する場合、凸部2が研摩除去される間に凹部3が研摩される分Δを予め凹部3に積み増しておいて、その後ポリッシュする。
請求項（抜粋）：
凸部と凹部とを有する被研摩材をポリッシュし凸部を研摩除去して平坦化するポリッシュによる平坦化方法において、凸部が研摩除去される間に凹部が研摩される分を予め凹部に積み増しておいて、その後ポリッシュすることを特徴とするポリッシュによる平坦化方法。
IPC (4件)：
H01L 21/304 321
, H01L 21/304
, H01L 21/302
, H01L 21/76
