特許

J-GLOBAL ID：200903000135844069

ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク

発明者： 三井 勝
出願人/特許権者： ホーヤ株式会社
代理人 (1件)： 阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-361531
公開番号（公開出願番号）：特開2000-181049
出願日： 1998年12月18日
公開日（公表日）： 2000年06月30日
要約：

【要約】【課題】 高精度のパターニングが可能で、かつ、耐酸性及び信頼性の高い位相シフトマスク及び位相シフトマスクブランクを提供することを解決すべき課題とする。【解決手段】 透明基板10と、この透明基板上に積層されたハーフトーン材料膜11と、このハーフトーン材料膜上に積層された金属膜12を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクにおいて、前記金属膜は、表面側から透明基板側に向かって段階的に及び/又は連続的にエッチングレートが速くなるように、エッチングレートが速くなる成分及び/又は遅くなる成分が表面側から透明基板側に向かって段階的に及び/又は連続的に増加及び/又は減少するように構成した。

請求項（抜粋）：

透明基板と、この透明基板上に積層されたハーフトーン材料膜と、このハーフトーン材料膜上に積層された金属膜とを有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクにおいて、前記金属膜は、表面側から透明基板側に向かって段階的に、又は、連続的に、又は、一部が段階的で他の一部が連続的に、エッチングレートが異なる材料で構成される領域が存在しており、エッチングレートが表面側から透明基板側に向かうにしたがって段階的に、又は、連続的に、又は、一部が段階的で他の一部が連続的に、速くなる領域が存在するように設定されており、また、前記金属膜は、主成分となる金属の外に1又は2以上の他の成分を含む複数の成分で構成されており、これら複数の成分のうち前記金属以外の成分は、前記金属のみで構成した膜のエッチングレートに比較して前記金属膜のエッチングレートを速くする成分であるか、又は、遅くする成分であるか、又は、速くする成分と遅くする成分とを含む複数の成分であるか、のいずれかであり、前記エッチングレートを速くする成分は、前記金属膜の表面側から透明基板側に向かうにしたがってその成分含有量が連続的に増加する領域が存在するように前記金属膜に分布されており、前記エッチングレートを遅くする成分は、前記金属膜の表面側から透明基板側に向かうにしたがってその成分含有量が連続的に減少する領域が存在するように前記金属膜に分布されていることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスクブランク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G03F 1/14 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/08 A ,  G03F 1/14 E ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528

Fターム (6件)：

2H095BB03 ,  2H095BC14 ,  2H095BC17 ,  2H095BC24 ,  5F046AA25 ,  5F046BA08