特許
J-GLOBAL ID:200903000136306419

ランディングパターン調整装置及び陰極線管製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山口 邦夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-185065
公開番号(公開出願番号):特開2002-010303
出願日: 2000年06月20日
公開日(公表日): 2002年01月11日
要約:
【要約】【課題】陰極線管の裏面側に貼着する補正用磁石を削除すると共に、ランディングを精度よく補正でき、陰極線管の製造時のランディング補正工程が容易なランディングパターン調整装置及びそれを用いた陰極線管製造方法とする。【解決手段】少なくとも陰極線管1の表示面2の背面側四隅にそれぞれ第1、第2、第3、第4の補正コイル6,7,8,9を設け、この第1、第2、第3、第4の補正コイル6,7,8,9により表示面2のランディングパターンを補正するランディングパターン調整装置とした。
請求項(抜粋):
少なくとも陰極線管の表示面の背面側四隅にそれぞれ第1、第2、第3、第4の補正コイルを設け、この第1、第2、第3、第4の補正コイルにより前記表示面のランディングパターンを補正することを特徴とするランディングパターン調整装置。
IPC (2件):
H04N 17/04 ,  H04N 5/68
FI (2件):
H04N 17/04 B ,  H04N 5/68 Z
Fターム (6件):
5C058AA01 ,  5C058BA35 ,  5C058CA20 ,  5C061BB15 ,  5C061BB17 ,  5C061CC05

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