イオン注入装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高橋詔男 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-227347
公開番号（公開出願番号）：特開2000-057988
出願日： 1998年08月11日
公開日（公表日）： 2000年02月25日
要約：

【要約】【課題】真空度の悪化、構造物の組立不良等に基づくイオンビームの不正確な測定による誤った制御を行なわずウェハ等に不純物注入を行うイオン注入装置を提供する。【解決手段】ドーズファラデー1は、イオン照射対象物のウェハ4に照射するイオンビーム6の軌道外に設けられ、ウェハ4へのイオン注入処理中のイオンビーム6のビーム電流を測定する。フロントファラデー2は、ドーズファラデー1近傍のイオンビーム6の軌道上に設けられ、イオン注入処理前にイオンビーム6のウェハ4の上流のビーム電流を測定する。バックファラデー5は、イオンビーム6の軌道上に設けられ、イオンビーム6のウェハ4の下流のビーム電流を測定する。フロントファラデースリット3は、ウェハ4に対して照射されるイオンビーム6を通過させる。図に示さない制御装置は、フロントファラデー2で測定したイオンビーム6のビーム電流値と、バックファラデー5で測定したイオンビーム6のビーム電流値との一致を確認し、ドーズファラデー1で計測されるビーム電流値を、フロントファラデー2、バックファラデー5で計測されるイオンビーム電流値と一致させるための係数Dffを演算する。

請求項（抜粋）：

不純物イオンのイオンビームを照射するイオン源と、このイオンビームの軌道上に設けられたイオン電流を計測し、計測結果として第1の計測値を出力する第1の計測手段と、前記第1の計測手段と同一平面上の近傍、かつ前記イオンビームの軌道外に設けられており、イオン電流を計測し、計測結果として第2の計測値を出力する第2の計測手段と、このイオンビームにおける前記第1の計測手段の下流の軌道上に設けられたイオン電流を計測し、計測結果として第3の計測値を出力する第3の計測手段と、前記第1の計測手段と第3の計測手段との間に配置されたイオン照射対象物と、前記第1の計測値、前記第2の計測値および前記第3の計測値に基づき前記イオン照射対象物に照射される前記不純物のイオン量を制御する制御手段とを具備することを特徴とするイオン注入装置。

IPC (2件)：

H01J 37/317 , H01L 21/265

FI (2件)：

H01J 37/317 C , H01L 21/265 T

Fターム (4件)：

5C034CC07 , 5C034CD07 , 5C034CD10 , 5C034DD07

引用特許：

審査官引用 (1件)

イオン注入装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-315294 出願人：日新電機株式会社

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