特許

J-GLOBAL ID：200903000142255982

FT-IRを用いた膜厚測定装置

発明者： 加藤 裕志
出願人/特許権者： 日本電子株式会社
代理人 (1件)： 阿部 龍吉 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-283483
公開番号（公開出願番号）：特開平11-118432
出願日： 1997年10月16日
公開日（公表日）： 1999年04月30日
要約：

【要約】【課題】 エピタキシャル層の膜厚が薄くなっても、測定精度の低下をなくすことができるようにする。【解決手段】 フーリエ変換赤外分光光度計1を用い基板上に形成された薄膜に赤外光を照射して反射法でインターフェログラムを検出し膜厚を測定するFT-IRを用いた膜厚測定装置であって、試料を測定して得られたインターフェログラムをフーリエ変換してチャネルスペクトルを取り出すチャネルスペクトル取り出し手段2、3と、前記チャネルスペクトルからスペクトル推定を行って分解能向上計算を行ってセプトラムを求める分解能向上計算手段4と、前記セプトラムからピークを検出し該ピーク位置から膜厚を算定する膜厚算定手段5、6とを備え、分解能向上計算手段4では、最大エントロピー法又は自己回帰モデルによる計算を行う。

請求項（抜粋）：

フーリエ変換赤外分光光度計を用い基板上に形成された薄膜に赤外光を照射して反射法でインターフェログラムを検出しフーリエ変換によりチャネルスペクトルを求めて膜厚を測定するFT-IRを用いた膜厚測定装置であって、試料を測定して得られたインターフェログラムをフーリエ変換してチャネルスペクトルを取り出すチャネルスペクトル取り出し手段と、前記チャネルスペクトルからスペクトル推定を行って分解能向上計算を行ってセプトラムを求める分解能向上計算手段と、前記セプトラムからピークを検出し該ピーク位置から膜厚を算定する膜厚算定手段とを備えたことを特徴とするFT-IRを用いた膜厚測定装置。