特許

J-GLOBAL ID：200903000145042599

マイクロミラーとマイクロプリズムおよびその製造方法

発明者： 西 孝
出願人/特許権者： 西 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-361931
公開番号（公開出願番号）：特開2002-131518
出願日： 2000年10月20日
公開日（公表日）： 2002年05月09日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 基板に対して任意の角度で、かつ表面形状を曲面などの任意の形状に形成可能なマイクロミラーおよびマイクロプリズムの製造方法を提供する。【解決手段】 フォトリソ工程において、所望のレジスト断面形状になるように透過光量を連続的に変化させた露光制御マスクを用いて、レジスト基板を露光・現像する工程、次にエッチング工程において、レジストとともに下地材料をRIEなどの異方性エッチングでエッチバックして、レジストの断面形状を下地材料に転写する工程、を特徴とするマイクロミラーとマイクロプリズムおよびその製造方法。

請求項（抜粋）：

露光量制御マスクを用いて露光・現像することにより、レジスト形状を傾斜形状もし〈は曲面形状に形成し、次にエッチング工程において、RIEなどの異方性エッチング条件で、前記レジストとともに下地材料をエッチバックして、レジストの断面形状を下地材料に転写する(以下、転写エッチングと呼ぶ)ことにより、所望の角度の傾斜面および所望の表面形状を有してなることを特徴とするマイクロミラーおよびマイクロプリズムの形成方法。

IPC (7件)：

G02B 5/08 ,  B81B 1/00 ,  B81C 1/00 ,  G02B 5/04 ,  G02B 5/10 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 501

FI (7件)：

G02B 5/08 C ,  B81B 1/00 ,  B81C 1/00 ,  G02B 5/04 E ,  G02B 5/10 C ,  G03F 1/08 G ,  G03F 7/20 501

Fターム (19件)：

2H042CA15 ,  2H042DA10 ,  2H042DA11 ,  2H042DA12 ,  2H042DC08 ,  2H042DC11 ,  2H042DD06 ,  2H042DD07 ,  2H042DE04 ,  2H095BB02 ,  2H095BB32 ,  2H095BB33 ,  2H095BB36 ,  2H095BC09 ,  2H097BB01 ,  2H097GB02 ,  2H097JA02 ,  2H097LA15 ,  2H097LA20

引用特許：

審査官引用 (2件)

• マイクロコーナーキューブ・マイクロコーナーキューブアレイおよびこれらの製造方法およびマイクロコーナーキューブアレイを用いる表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-001130   出願人：リコー光学株式会社, 株式会社リコー
• 光学デバイス・光学デバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-101993   出願人：リコー光学株式会社