特許

J-GLOBAL ID：200903000151321386

電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法

発明者： 安芸 祐一 ,  山本 眞伸
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 角田 芳末 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-035873
公開番号（公開出願番号）：特開2003-242923
出願日： 2002年02月13日
公開日（公表日）： 2003年08月29日
要約：

【要約】【課題】 電子ビームカラム12が内蔵される真空チャンバー15に静圧浮上パッド19が連結され、この静圧浮上パッド19が被照射体1に非接触で吸着した状態で電子ビームが被照射体1に照射される構造の電子ビーム照射装置において、焦点のビームスポット径をより小さく絞ることができるようにする。【解決手段】 電子ビームカラム12の先端の対物レンズ部30を切り離し、これを静圧浮上パッド19と一体化した構造とすることにより、対物レンズ部30と被照射体1との間の距離を近接させる。

請求項１：

電子ビームカラムが内蔵される真空チャンバーに静圧浮上パッドが連結され、この静圧浮上パッドが被照射体に非接触で吸着した状態で電子ビームが被照射体に照射される構造の電子ビーム照射装置において、上記電子ビームカラムの対物レンズ部を上記静圧浮上パッドと一体化した構造としたことを特徴とする電子ビーム照射装置。

IPC (4件)：

H01J 37/301 ,  G11B 7/26 501 ,  H01J 37/18 ,  H01J 37/305

FI (4件)：

H01J 37/301 ,  G11B 7/26 501 ,  H01J 37/18 ,  H01J 37/305 Z

Fターム (4件)：

5C033KK06 ,  5D121BB21 ,  5D121BB38 ,  5D121BB40