光学結像系の結像品質を測定するための測定方法および測定システム

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田辺徹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-561103
公開番号（公開出願番号）：特表2006-511069
出願日： 2002年12月19日
公開日（公表日）： 2006年03月30日
要約：

【課題】光学結像系の高精度測定を、その使用現場で短時間に、また装置をあまり複雑にしないで可能にする測定方法および測定システムを提供する。【解決手段】光学結像系(10)の結像品質を測定するための測定方法において、結像系の物体面の領域内に配置することができるマスク構造部(20)を有する測定マスクを設ける。さらに、マスク構造部に適応させた参照構造部(23)であって、結像系の像面(12)上に配置すべきである参照構造部(23)と、2次元に延在する感光記録媒体(24)であって、記録位置に配置され、それにより、マスク構造部を参照構造部上に結像するときに生じる重ね合わせパターンを記録媒体によって検出することができる、記録媒体(24)とを設ける。記録媒体の評価のために、記録媒体を記録位置から、それから離れた評価位置へ移動させる。本測定方法および関連の測定システムは、マイクロリソグラフィ投影露光装置内に組み込まれた状態での投影対物レンズの高速かつ高精度の測定に特に適する。

請求項（抜粋）：

光学結像系の結像品質を測定するための測定方法であって、前記結像系の物体面の領域内にマスク構造部を設けるステップ、前記結像系の像面の領域内に前記マスク構造部に適応させた参照構造部を設けるステップ、少なくとも1つの2次元に延在する感光記録媒体を記録位置に設けるステップ、前記マスク構造部を前記参照構造部上に結像するステップであって、それにより、前記結像系の視野面またはひとみ面の領域内に強度分布を生じる、結像するステップ、前記強度分布または該強度分布の画像を前記記録媒体によって検出するステップ、前記記録媒体を前記記録位置から、それから離れた評価位置へ移動させるステップ、および前記記録媒体を前記記録位置から離れた位置で評価するステップ、を含む測定方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G01M 11/02

FI (2件)：

H01L21/30 516A , G01M11/02 B

Fターム (8件)：

2G086HH06 , 5F046AA17 , 5F046CB17 , 5F046CB25 , 5F046DB04 , 5F046DB11 , 5F046DC05 , 5F046DC11

引用特許：

出願人引用 (7件)

DE10109929
米国特許出願第2002001088A1号
米国特許第5,767,959号

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