特許

J-GLOBAL ID：200903000156957564

光触媒被膜を形成した複合材料の製造方法

発明者： 田原 知之 ,  信澤 達也 ,  高野 茂 ,  村上 裕彦 ,  小圷 千鶴
出願人/特許権者： JFEスチール株式会社 ,  株式会社アルバック
代理人 (1件)： 杉村 興作 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-279410
公開番号（公開出願番号）：特開2003-190809
出願日： 2002年09月25日
公開日（公表日）： 2003年07月08日
要約：

【要約】【課題】 可視光照射により光触媒活性および/または親水性を発現するチタン含有オキシナイトライドからなる光触媒被膜を形成した複合材料の製造方法を提供することにある。【解決手段】 基材表面を、平均膜厚が0.01〜3μmのチタン含有酸化物またはその前駆体物質を含む被膜で被覆した後、所定のガス雰囲気下で所定の窒化処理を施すことにより、前記被膜を、可視光照射により光触媒活性および/または親水性を発現するチタン含有オキシナイトライドからなる光触媒被膜に改質することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

基材表面を、平均膜厚が0.01〜3μmのチタン含有酸化物またはその前駆体物質を含む被膜で被覆した後、アンモニアガス、アンモニア含有ガスまたは水素と窒素の混合ガスの雰囲気下で、400〜1200°Cの温度での加熱による窒化処理を施すことにより、前記被膜を、可視光照射により光触媒活性および/または親水性を発現するチタン含有オキシナイトライドからなる光触媒被膜に改質することを特徴とする、光触媒被膜を形成した複合材料の製造方法。

IPC (2件)：

B01J 35/02 ,  C01G 23/00

FI (2件)：

B01J 35/02 J ,  C01G 23/00 Z

Fターム (18件)：

4G047CA01 ,  4G047CB04 ,  4G047CB08 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069BB06B ,  4G069BB11A ,  4G069BB11B ,  4G069BC12B ,  4G069CA10 ,  4G069EA08 ,  4G069FB02 ,  4G069FB24

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 抗菌・防汚材及び導電性可視光感応型酸化チタンの作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-251629   出願人：株式会社アルバック