揮発性化学物質放出の減少のための触媒排気ガス処理システム

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：社本一夫 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-500601
公開番号（公開出願番号）：特表平11-506695
出願日： 1996年05月17日
公開日（公表日）： 1999年06月15日
要約：

【要約】化学プロセスプラントからの一酸化炭素及び揮発性の有機化合物の放出を減少させるための排気ガス処理の統合プロセスが提供される。該方法は、有機汚染物質を、固体酸化触媒(44)の上で、排気ガス流中の二酸素で触媒酸化する手段;所定量の可燃性流体(31)を酸化の上流の排気ガス流中に供給して、有機汚染物質の触媒酸化を促進させる手段;及び供給手段によって供給される可燃性流体の量を制御する手段であって、本発明による好適な反応温度を保持するのに十分な触媒酸化のための反応物質を与えるように調節されている手段を包含する。

請求項（抜粋）：

揮発性化合物及び過剰の二酸素を含む排気ガス流を有する産業プロセスからの一酸化炭素及び他の揮発性化合物の放出を減少させるための排気ガス処理システムであって、排気ガス流中に配置された固体酸化触媒を含む酸化容器; 酸化触媒の上流の排気ガス流の温度を測定するための手段; 所定量の可燃性流体を酸化容器の上流の排気ガス流中に供給して、一酸化炭素及び他の有機化合物の触媒酸化を促進させるための手段; 酸化触媒の下流の排気ガスの温度を測定するための手段; 供給手段によって供給される可燃性流体の量を制御するための手段であって、酸化によって二酸化炭素及び水を含む酸化流出流を形成するための酸化容器中の好適な反応温度を保持するのに十分な触媒酸化のための可燃性流体を提供するように調整された手段;を有することを特徴とするシステム。

IPC (3件)：

B01D 53/86 ZAB , B01D 53/94 , B01J 23/38

FI (3件)：

B01D 53/36 ZAB G , B01J 23/38 A , B01D 53/36 104 Z

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開昭55-099517
特開昭55-089246
移動式臭化メチル分解除去装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-194561 出願人：日本化薬株式会社

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審査官引用 (7件)

特開昭55-099517
特開昭55-099517
特開昭55-089246

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