特許
J-GLOBAL ID:200903000195250796

ポジ型感光性樹脂組成物、これを用いたレリーフパターンの製造法及びポリイミドパターンの製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 若林 邦彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-031526
公開番号(公開出願番号):特開平10-228110
出願日: 1997年02月17日
公開日(公表日): 1998年08月25日
要約:
【要約】【課題】 製造が容易で、粘度安定性に優れ、良好な像形成が可能なポジ型感光性樹脂組成物、形状の良好なポリイミドパターンを与えうるレリーフパターンの製造法及び形状の良好で安定な耐熱性を有するポリイミドパターンの製造法を提供する。【解決手段】 (a)有機溶媒可溶性ポリイミドと塩基性化合物とにより形成される錯体、(b)光酸発生剤及び(c)溶媒を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物、このポジ型感光性組成物の塗膜に活性光線をパターン状に照射し、照射部を現像除去することを特徴とするレリーフパターンの製造法並びにこの製造法により得られたレリーフパターンを加熱することを特徴とするポリイミドパターンの製造法。
請求項(抜粋):
(a)有機溶媒可溶性ポリイミドと塩基性化合物とにより形成される錯体、(b)光酸発生剤及び(c)溶媒を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物。
IPC (6件):
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/037 501 ,  G03F 7/40 501 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/312
FI (6件):
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 Z ,  G03F 7/037 501 ,  G03F 7/40 501 ,  H01L 21/312 B ,  H01L 21/30 502 R

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