シリカ粉末の製造方法及び該方法で製造されたシリカ粉末

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：須田正義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-156909
公開番号（公開出願番号）：特開2002-348112
出願日： 2001年05月25日
公開日（公表日）： 2002年12月04日
要約：

【要約】【課題】シリカ粉末母材の表面に、シリカを均一にかつ安価に形成し、シリカ粉末母材及びシリカ(被覆層)の物理的特性及び化学的特性を十分に得る。【解決手段】容器12に平均粒径が0.005〜0.1μmのシリカ粉末母材11を収容し、不活性ガスを容器に流通させかつシリカ粉末母材を撹拌しながら加熱・乾燥する。次に乾燥したシリカ粉末母材に四塩化けい素の蒸気を供給してシリカ粉末母材表面のシラノール基と反応させた後に、未反応の四塩化けい素の蒸気を容器の外部に除去する。更にシリカ粉末母材に水蒸気を供給して、シリカ粉末母材表面のシラノール基と反応した四塩化けい素を加水分解した後に、容器を300〜600°Cに加熱して加水分解で副生した塩酸を容器の外部に除去する。

請求項（抜粋）：

密閉した容器(12)の中に平均粒径が0.005〜0.1μmのシリカ粉末母材(11)を収容する工程と、不活性ガスを前記容器(12)に流通させかつ前記シリカ粉末母材(11)を撹拌しながら加熱することにより乾燥する工程と、前記乾燥工程と同一の不活性ガスを前記容器(12)に流通させかつ前記シリカ粉末母材(11)を撹拌しながら、前記乾燥したシリカ粉末母材(11)に四塩化けい素又はアルコキシシランの蒸気を供給して前記シリカ粉末母材(11)表面のシラノール基と反応させる工程と、前記乾燥工程と同一の不活性ガスを前記容器(12)に流通させかつ前記シリカ粉末母材(11)を撹拌しながら、未反応の前記四塩化けい素又はアルコキシシランの蒸気を前記容器(12)の外部に除去する工程と、前記乾燥工程と同一の不活性ガスを前記容器(12)に流通させかつ前記シリカ粉末母材(11)を撹拌しながら、前記シリカ粉末母材(11)に水蒸気を供給して、前記シリカ粉末母材(11)表面のシラノール基と反応した四塩化けい素又はアルコキシシランを水蒸気にて加水分解する工程と、前記乾燥工程と同一の不活性ガスを前記容器(12)に流通させかつ前記シリカ粉末母材(11)を撹拌しながら、前記容器(12)を300〜600°Cに加熱して前記加水分解で副生した塩酸又はアルコールを前記容器(12)の外部に除去する工程とを含むシリカ粉末の製造方法。

Fターム (14件)：

4G072AA25 , 4G072BB05 , 4G072GG01 , 4G072GG03 , 4G072HH08 , 4G072HH14 , 4G072HH30 , 4G072JJ11 , 4G072MM01 , 4G072MM31 , 4G072QQ06 , 4G072RR05 , 4G072TT01 , 4G072UU09

引用特許：

審査官引用 (7件)

高負帯電性の金属酸化物粉体とこれを含む電子写真用現像剤
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-176704 出願人：三菱マテリアル株式会社
特開平3-187913
特開昭58-217422

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