特許

J-GLOBAL ID：200903000203180450

ホログラフィーによる光制御素子作製方法および光制御素子

発明者： 星野 鉄哉 ,  杉本 靖 ,  本田 裕
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-263271
公開番号（公開出願番号）：特開2002-071959
出願日： 2000年08月31日
公開日（公表日）： 2002年03月12日
要約：

【要約】【課題】 露光するだけで容易に回折効率の高い素子、特に拡散体を作製できる材料を提供するものであるとともに、この素子の作製方法を提供する。【解決手段】 光異性化可能であって二色性を示す構成単位を含む樹脂をホログラフィックに露光することで、光量分布に対応した凹凸をつくり、これを光制御素子とする。

請求項（抜粋）：

光異性化可能であって二色性を示す構成単位を含む樹脂をホログラフィックに露光して、深さ0.1μm以上、90μm以下の凹凸を形成することにより作製される光制御素子。

IPC (5件)：

G02B 5/32 ,  G02B 5/02 ,  G02B 5/18 ,  G03H 1/02 ,  G03H 1/04

FI (5件)：

G02B 5/32 ,  G02B 5/02 C ,  G02B 5/18 ,  G03H 1/02 ,  G03H 1/04

Fターム (28件)：

2H042BA03 ,  2H042BA14 ,  2H042BA15 ,  2H049AA03 ,  2H049AA04 ,  2H049AA13 ,  2H049AA14 ,  2H049AA25 ,  2H049AA26 ,  2H049AA34 ,  2H049AA53 ,  2H049AA64 ,  2H049CA05 ,  2H049CA15 ,  2H049CA16 ,  2H049CA17 ,  2H049CA28 ,  2K008AA10 ,  2K008BB01 ,  2K008BB06 ,  2K008BB08 ,  2K008DD12 ,  2K008FF12 ,  2K008FF13 ,  2K008FF14 ,  2K008GG05 ,  2K008HH01 ,  2K008HH25