特許
J-GLOBAL ID：200903000214575189
磁気ディスク装置の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
磯野 道造
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-205440
公開番号（公開出願番号）：特開平6-052667
出願日： 1992年07月31日
公開日（公表日）： 1994年02月25日
要約：
【要約】【目的】磁気ディスク装置の製造方法に関し、磁気ディスク装置の小型化・薄型化を実現することである。【構成】基板上に絶縁層を介して磁気ディスクの回転機構のステータコイルとその中心部に磁気ディスクの回転軸とその中心部から離れた位置にアクチュエータ形成部を形成し、絶縁層上と回転軸の周りに第一の犠牲層を形成し、この犠牲層上でステータコイルと対向する位置に永久磁石を形成し、永久磁石と第一の犠牲層上に磁気ディスクを形成し、アクチュエータ形成部に駆動コイルを形成し、駆動コイルと磁気ディスク上に第二の犠牲層を形成し、アクチュエータ形成部に回動支軸および第二の犠牲層上に先端に磁気ヘッドを、後端部に駆動コイルと対向する永久磁石を有する磁気ヘッドアームを回動支軸に回動自在に支持された状態で形成し、前記各犠牲層を除去する各工程とよりなる。
請求項（抜粋）：
磁気ディスクおよびそれを回転させる回転駆動機構と、磁気ヘッドおよびそれを磁気ディスクの記録再生位置に位置決めする磁気ヘッド駆動機構とを、薄膜形成工程を用いて形成することを特徴とする磁気ディスク装置の製造方法。
IPC (5件)：
G11B 33/00
, G11B 19/20
, G11B 21/02
, G11B 25/04 101
, H02K 15/04
