特許
J-GLOBAL ID：200903000217286315
パターニング方法、膜形成方法、パターニング装置、膜形成装置、電気光学装置とその製造方法、電子機器、及び電子装置とその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
上柳 雅誉
, 藤綱 英吉
, 須澤 修
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2002009383
公開番号（公開出願番号）：WO2003-026359
出願日： 2002年09月12日
公開日（公表日）： 2003年03月27日
要約：
材料の選択自由度を高くした新たなパターニング方法を提供するとともに、膜形成方法、パターニング装置、膜形成装置、電気光学装置とその製造方法、電子機器、及び電子装置とその製造方法を提供する。高真空度に調整可能な真空チャンバー2と、材料供給源7に接続されかつ真空チャンバー2に取り付けられて、真空チャンバー2内に材料供給源7からの材料を供給するノズル3と、真空チャンバー2内に設けられて基体Sを保持固定する基体ステージ4とを備えてなるパターニング装置1。ノズル3または基体ステージ4に、これらの位置を相対的に移動させる移動機構11が設けられている。理想的には材料分子のフリージェットを生成し、このフリージェットを用いてパターニングする(フリージェットパターニング)ことが望ましい。これにより、より精度の高いパターニングが可能となる。
請求項（抜粋）：
高真空度に調整された真空雰囲気中に基体を配置し、材料供給源に接続されたノズルから前記真空雰囲気中に材料を吐出して、前記基体上に前記材料からなるパターンを形成することを特徴とするパターニング方法。
IPC (9件)：
B05D1/26
, B05C5/00
, B05C15/00
, B05D3/12
, B05D7/00
, B41J2/01
, H05B33/10
, H05B33/14
, H05B33/22
B05D1/26 Z
, B05C5/00 101
, B05C15/00
, B05D3/12 A
, B05D7/00 H
, H05B33/10
, H05B33/14 A
, H05B33/22 Z
, B41J3/04 101Z
