特許
J-GLOBAL ID:200903000217867458

光導波路グレーティングとその製造方法及び光デバイス

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 青山 葆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-147960
公開番号(公開出願番号):特開2001-330741
出願日: 2000年05月19日
公開日(公表日): 2001年11月30日
要約:
【要約】【課題】 簡単な構造で、グレーティング中心波長の温度ドリフトを小さくできる光導波路グレーティング及び光デバイスならびにその製造方法を提供する。【解決手段】 基板上に、それぞれSiO2を主成分とするコアとコアの内部に光を閉じ込めるようにコアの周りに形成されたクラッドとを備え、コアの屈折率が周期的に変化されてなる石英系平面光導波路グレーティングにおいて、コアまたはクラッドの少なくとも一方に、F、N、Ti、Zr、OH及びODからなる群から選択された少なくとも1種類を含む。
請求項(抜粋):
基板上に、それぞれSiO2を主成分とするコアとコアの内部に光を閉じ込めるようにコアの周りに形成されたクラッドとを備え、上記コアの屈折率が周期的に変化されてなる石英系平面光導波路グレーティングにおいて、上記コアまたはクラッドの少なくとも一方に、F、N、Ti、Zr、OH及びODからなる群から選択された少なくとも1種類を含むことを特徴とする光導波路グレーティング。
IPC (4件):
G02B 6/122 ,  G02B 5/18 ,  G02B 6/13 ,  G02B 6/12
FI (4件):
G02B 5/18 ,  G02B 6/12 A ,  G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 N
Fターム (13件):
2H047KA04 ,  2H047KA11 ,  2H047LA02 ,  2H047PA03 ,  2H047QA04 ,  2H047QA07 ,  2H047TA00 ,  2H047TA31 ,  2H049AA34 ,  2H049AA45 ,  2H049AA51 ,  2H049AA59 ,  2H049AA62

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