特許
J-GLOBAL ID:200903000220549335

光ファイバの製造装置及び製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-148153
公開番号(公開出願番号):特開2000-335935
出願日: 1999年05月27日
公開日(公表日): 2000年12月05日
要約:
【要約】【課題】 レイリー散乱強度を低減し、伝送損失の低い光ファイバを製造するに際して、表面に樹脂が被覆された光ファイバ素線の量産に適用することが可能な光ファイバの製造方法を提供すること。【解決手段】 線引き装置1は線引き炉11、徐冷炉21及び樹脂硬化部31を有している。線引き炉11の炉心管13には、Heガス供給部14からのHeガス供給通路15が接続されており、Heガスが供給される。線引き炉11にて加熱線引きされた光ファイバ3を徐冷炉21に送り、光ファイバ3の所定箇所を、所定の冷却速度にて徐冷する。徐冷炉21の炉心管23には、N2ガス供給部24からのN2ガス供給通路25が接続されており、N2ガスが供給される。その後、光ファイバ3に、プライマリコーティングダイス51によりコーティング樹脂液52を塗布し、樹脂硬化部31にてコーティング樹脂が加熱硬化され、光ファイバ素線4となる。
請求項(抜粋):
光ファイバ母材を加熱線引きし、線引きされた光ファイバを樹脂により被覆する光ファイバの製造装置であって、所定の熱伝導率を有する第1ガスからなる雰囲気にて前記光ファイバ母材を加熱線引きする線引き炉と、前記線引きされた光ファイバを前記樹脂により被覆する樹脂被覆部と、前記線引き炉と前記樹脂被覆部との間に設けられ、前記第1ガスの前記所定熱伝導率よりも小さい熱伝導率を有する第2ガスからなる雰囲気にて前記線引きされた光ファイバを加熱して徐冷する徐冷炉とを備えることを特徴とする光ファイバの製造装置。
IPC (2件):
C03B 37/10 ,  G02B 6/00 356
FI (2件):
C03B 37/10 A ,  G02B 6/00 356 A
引用特許:
審査官引用 (9件)
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