特許
J-GLOBAL ID：200903000225371720
位相シフタマスクの欠陥検出方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-353667
公開番号（公開出願番号）：特開平5-165197
出願日： 1991年12月18日
公開日（公表日）： 1993年06月29日
要約：
【要約】【目的】 検査工程が簡単で検査時間も短いにも拘らず高い精度で位相シフタマスクの欠陥部を検出する。【構成】 位相シフタマスク15の一方の面側に光源21と光検出器23とを配すると共に、他方の面側に光検出器22を配し、光16が光検出器22で検出された時にのみ光検出器23の検出信号を読み取る。光検出器23からは、透過部13を覆っている位相シフタ膜14の欠陥部17のみならずクロム膜12上の位相シフタ膜14の欠陥部24や位相シフタ膜14及びクロム膜12の端縁25、26に光16が入射したときにも、検出信号が出力される。しかし、クロム膜12に光16が入射したときには、この光16は光検出器22では検出されないので、欠陥部17のみを選択的に検出することができる。
請求項（抜粋）：
光の透過部と非透過部とを有し複数の前記透過部のうちの一部の前記透過部が位相シフタ膜に覆われている位相シフタマスクの欠陥検出方法において、前記位相シフタマスクの一方の面側に光源と少なくとも1個の第1の光検出器とを配すると共に、他方の面側に第2の光検出器を配し、前記光源から射出された光が前記第2の光検出器で検出された時にのみ前記第1の光検出器の検出信号を読み取ることを特徴とする位相シフタマスクの欠陥検出方法。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, H01L 21/027
, H01L 21/66
