電子部品等の洗浄方法及び装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：本多小平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-171959
公開番号（公開出願番号）：特開平9-019661
出願日： 1995年07月07日
公開日（公表日）： 1997年01月21日
要約：

【要約】【課題】必要最小限の薬液使用量で、電子部品等の超清浄な表面を洗浄する方法を提供する。【解決手段】半導体基板、ガラス基板、電子部品の製品又は製品素材、あるいはこれらの製造装置用部品等の被洗浄物の超清浄な表面を、高純度水に塩素ガスを溶解した洗浄溶液で洗浄する。

請求項（抜粋）：

半導体基板、ガラス基板、電子部品の製品又は製品素材、あるいはこれらの製造装置用部品等の被洗浄物の超清浄な表面を、高純度水に塩素ガスを溶解した洗浄溶液で洗浄することを特徴とする電子部品等の洗浄方法。

IPC (2件)：

B08B 3/08 , H01L 21/304 341

FI (2件)：

B08B 3/08 A , H01L 21/304 341 L

引用特許：

審査官引用 (11件)

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